原子层沉积技术及运用
尊敬的用户:您还没有登录,请 登 录!
第八届中国功能材料及其应用学术会议——在本报告中中国科学院微电子研究所的夏洋研究员为我们详细的介绍了ALD技术及设备,分别对ALD薄膜生长过程及特征、ALD与PVD、CVD间的区别进行了详细的讲解。
嘉 宾 :
研究员 夏洋
关键字 :
视频年代:2013
相关视频
溅射沉积Cu-W薄膜中的类调幅结构
黄土地区地震灾害的预防预测技术
中厚膜电沉积涂料
MOD法制备YBC0薄膜结晶行为研究
基于往复运动基板的金属射流快速凝固制备层状铝合金
原子探针层析技术(APT)与材料纳米结构表征
科学使用中微量元素肥料
化学溶液平坦化技术研究及应用
摩擦表面再生技术
灵芝的药用价值